英国Quorum/Emitech高真空蒸镀仪K950X在使用碳棒蒸镀时可给出连续的碳膜，并且使用涡轮分子泵时没有污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的导电涂层。
在厚度为2nm (20埃)或更厚时膜是连续的。通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4 mbar或更高的真空度
涡轮分子泵在K950X中作为标准配置，此泵作为机械真空泵的后级泵，真空为全自动控制，真空度优于1x10-5 mbar。可进行预热及除气控制，同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。
标准的旋转样品台可进行倾斜调节，容易适应各种样品座。可选的样品台具特殊的凹槽，可放置标准的载玻片，这在“石棉分析”需要镀碳层时尤为有利。
碳棒头在仪器中作为标准件。这是一个“快速释放头”，使用户在选择金属蒸发附件、碳丝及光阑清洗头时可方便地更换。放气系统具有互锁装置，避免样品受到干扰。涡轮分子泵可安装在任何轴上，并且可“关闭”直接通大气。

主要特点

(1)全自动抽气系统
(2) 旋转样品台
(3) 菜单驱动式“用户”键盘输入
(4) 快速释放头方便选择不同的头
(5) 约束的排气控制
(6) 涡轮分子泵抽真空

优点

(1) 容易操作
(2) 均匀的样品涂层
(3) 方便多用户操作
(4) 可用于蒸碳及蒸镀金属
(5) 在排气过程中可防止样品损坏
(6) 碳棒或碳丝蒸发

英国Quorum/Emitech高真空蒸镀仪K950X技术参数

仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量：28Kg
工作腔室：硼硅酸盐玻璃165mm Dia x 125mm H
钟罩：聚碳酸酯
铝机座：110mm Dia x 115mm H
碳 源：直径3.2mm碳棒
旋转样品台：直径为60 mm，倾斜0-90o
真空计范围：ATM - 1x10-5 mbar
操作真空：1x10-2 to 1x10-5 mbar
安培计：0-50 Amps
低电压选择：0-5V-15V-25V
除气电流：0-25 Amps
涡轮分子泵：50L/Second
Services -Argon - Nominal 4psi. Rotary Backing Pump -Two Stage Vacuum Pump No. 2, 35L/Min complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter. 2m3/Hr
电源：230V 50Hz (包括泵大电流8 安培)；115V 60Hz(包括泵大电流16 安培)